Spin coating (em português, revestimento por rotação) é um método de deposição uniforme de filmes bastante finos sobre substratos lisos. Normalmente é aplicada uma pequena quantidade de material (fluido) no centro do substrato, o qual se encontra a girar a baixa velocidade, ou parado por completo. Ao girar o substrato a velocidades angulares mais elevadas, a forca centrífuga promove o espalhamento do material pelo substrato. O instrumento usado para esta técnica denomina-se por spin coater, ou simplesmente spinner.
Spin coater
A rotação do substrato é mantida enquanto o fluido se espalha para fora da superfície , até que a espessura desejada seja alcançada. Normalmente o material aplicado encontra-se dissolvido num solvente volátil, o qual vai-se evaporando aquando da rotação do substrato. Quanto maior for a velocidade angular, mais fino será o filme gerado. Notar, no entanto, que a espessura do filme também depende da viscosidade e concentração da solução, bem como do tipo de solvente usado. Após a deposição, o material passa por uma cura, onde o solvente é evaporado.
Representação esquemática de spin coating
O spin coating é bastante utilizado para a deposição de camadas microscópicas de óxidos funcionais sobre vidro ou substratos cristalinos, sendo usados percursores sol-gel. É intensivamente usado para criar camadas finas de semicondutores sobre substratos para a criação de células foto-voltaicas.
Fonte: wikipédia | spincoater.com